電鍍鎳慢一般可以分為兩種，一種是鍍層亮的慢，另外一種就是，低電流區(qū)鍍層不光亮，或有漏鍍表象。下面呢，就小編來給大家簡單介紹一下關于造成電鍍慢的原因有哪些呢？

1、電流過小。尤其是鍍那條形狀較復雜的超大件，電流太小，使凹洼處電流分布太弱。

2、光亮劑缺乏。補加光亮劑即可解決。

3、鍍液渙散能力差。首要是氯化甲含量偏低所造成。經(jīng)化驗后補加。

4、鉛雜質太多。常表現(xiàn)在低電流區(qū)灰暗色，鍍層顯薄。用鋅處理（每升鍍液加入1g鋅）后盡快過濾鍍液，并補加開缸劑4-5mL/L。

鍍液溫度太高，鍍液內(nèi)分化產(chǎn)品過多也是緣由之一。這種表象的首要緣由是 鍍液中鐵含量太高所造成的。 鐵雜質的電級電位雖然比鋅正，但在氯化甲鍍鋅體系中鋅的分出電位卻比鐵正。所以鐵首要在高電流區(qū)分出。當鍍液中鐵離子含量高時，就會在工件的邊角處富集。鍍層中鐵的含量高，應力大，鍍 層易開裂。 鍍液中鐵雜質多時有一明顯特征：鍍液污濁?；虺始t色污濁，或呈白色污濁。加雙氧處理即可消除鐵的影響。

電鍍鎳基礎知識：影響鍍層燒焦的因素主鹽濃度過低

對于氯化甲鍍鋅、光亮酸銅、鍍鎳等簡單鹽電鍍，當主鹽濃度過低時，鍍層易燒焦。原因是：（1）主鹽濃度過低時，陰級界面液層中主鹽濃度本身很低，電流稍大，放電后即缺乏金屬離子，H+易乘機放電；（2）鍍液本體的主鹽濃度低，擴散與電遷移速度都下降，陰級界面液層中金屬離子的補充速度也低，濃差級化過大。

配合物電鍍則較復雜。若單獨提高主鹽濃度，則配合比變小，陰級電化學級化不足。在保持配合比不變的前提下，要提高主鹽濃度，配位劑濃度應按比例提高，即鍍液應濃，但這受多種因素制約，鍍液濃度不可隨意提高。